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densità (low-density amorphous ice, LDA) è conosciuto da circa 60 .. [14] P. H. Poole, F. Sciortino, U. Essmann and H. E. Stanley, Nature, 360. (1992) 324. U amorphous Symposz'u-m on Frontiere of szdamental cmd Computatz'onol Phys-ica (FFP- Quanîzîtative local enm'mnment chamcteflzation in amorphous ozidas, 15 Jan 2010 Study on the excimer laser annealed amorphous hydrogenated silicon carbon films deposited by PECVD U. Coscia,. Close author notes. Nanostructured and Amorphous Materials, Inc.-- a world leader and supplier of a wide variety of nanostructured and amorphous materials.closed b). V o. = 6000 V. C = 800 µ F. L = 0.98 mH. R = 0.13 Ω. C u rre n t (A. ) Time (ms). 0)(. 1)( Co67Fe4B14.5Si14.5; 3) amorphous alloys Fe78B13Si9; 4).

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Title: Low-temperature admittance measurement in thin film amorphous silicon structures. Authors: Caputo, D.; Forghieri, U.; Palma, F. Affiliation:

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